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    三元マグネトロンスパッタ装置

    製品情報

    三元マグネトロンスパッタ装置

     

    概    要
    ・ 三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発

    ・ 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化
    (ヒータ温度:950℃)や反応性スパッタなど様々な使い方に対応

    ※ ターゲット材料、導入ガスについては御相談下さい。
    ※ お客様の実験内容や予算に応じて仕様のカスタマイズが可能です。
    ※ アシスト用プラズマ源も対応可能(ECR、ICP、他)