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    高真空蒸着装置

    製品情報

    高真空蒸着装置

     

    概    要
    ※ ターボ分子ポンプ搭載でクリーンな成膜が可能 (到達圧力4 × 10-5 Pa)
    ※ 基板傾斜機構搭載で基板をθ±90°、φ±45°傾斜成膜可能
    ※ 蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応
    ※ 水晶振動式膜厚モニター搭載